"여태 잘 써왔고 문제가 없었음"

실리있음 ㅋ

솔직히 Ge로 먼저 만들었고 Ge로도 만들 수 있지만 Si가 제일 defect관리가 쉬움

"싸다"

특성들 이것저것 다 따져봐도 일단은 싸다가 압도적임.
본문에 적어준 특성들은 당시 기술 수준에서는 맞는 말이긴 한데 요즘은 더 좋은 특성들 보이는 물질이 많음. 
Epitaxial한 성장법이야 다른 물질들도 가능하고 doping도 마찬가지고 산화막은 절연성은 엥간하면 다 확보되고 요즘은 k값 더 높은/낮은 산화막들을 적극적으로 쓰고 있음.
하지만 대부분 특성 하나가 좋으면 다른게 나쁘거나 비싸거나 해서 적절한 특성을 갖추고 있으면서 가격도 싼거 찾으면 실리콘 밖에 없긴 함.

사족이지만 실리콘 위에 실리콘 산화막 올리고 그 위에 도핑 때려박은 실리콘 올리면 MOS 구조 바로 뚝딱이라 범용성도 좋긴 했는데 요즘은 특성 개선 때문에 M은 진짜 금속, O는 ZrO2나 HfO2 쓰다 보니 범용성 측면에선 많이 퇴색되는 부분이 있다고 봄. 채널 물질도 Ge으로 대체하려는 연구가 많이 진행되고 있기도 하고.