무기>
1돌
예전 : 무기 스킬 사용시 적 최대 체력의 2%의 추가 대미지를 입힘, 단 공격력의 최대 200%까지 적용
현재 : 매 공격시 대상의 현재 HP의 {0}% 추가 대미지, (단 공격력의 {1}%를 초과하지 않음)
3돌
예전 : 블래스트 수류탄 및 회피, 근접 공격 기술이 상대에게 이온 점화 상태를 적용하여 10초 동안 1초마다 공격력의 60%의 피해를 가합니다
현재 : 블래스트 수류탄 및 회피, 근접 공격 기술이 상대에게 이온 점화 상태를 적용하여 10초 동안 1초마다 공격력의 40%의 피해를 가합니다
5돌
예전 : 이온 점화 피해가 90%로 증가하고 모든 무기의 회피, 근접 공격 기술이 화상 지속시간을 새로 고칩니다
현재 : 이온 점화 피해가 60%로 증가하고 모든 무기의 회피, 근접 공격 기술이 화상 지속시간을 새로 고칩니다
6돌
예전 : 스킬 탄막은 연소 효과를 포함하며 15초 동안 지속됩니다. 모든 무기의 회피 공격으로 상대를 명중하면 탄막의 대기시간이 4초로 감소하며, 1.5초마다 한 번씩 감소합니다.
현재 : 동일
칩셋>
2셋예전 : 디버프가 붙은 대상에게 뎀증 10% / 12.5% / 15% / 17.5%
2셋현재 : 디버프가 붙은 대상에게 뎀증 14% / 16% / 18% / 20%
4셋예전 : 회피 3회 당 1회 회복. 회피에 성공하면 6초동안 24% / 30% / 36% / 42%의 화상 도트뎀 부여
4셋현재 : 회피 3회 당 1회 회복. 회피에 성공하면 4초동안 0.5초 마다 24% / 30% / 36% / 42%의 화상 도트뎀 부여
1돌 보면 스킬이 아니라 매 공격으로 추가댐 들어가는거 같은데.. 흠..?
